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專利申請號:2019-555524;專利名稱:フォトニック集積素子及びその製作方法; 授權國家:日本。
MANUFACTURING METHOD OF QUANTUM DOT STRUCTURE
量子ドット構造の製造方法
光子集成器件及其制作方法
フォトニック集積素子及びその製作方法
青島翼晨鐳碩科技有限公司
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